而光刻機另一大核心部件之一的工件臺,在高速運動下需達到 2nm(相當于頭發(fā)絲直徑的三萬分之一)的運動精度,它的定位精度直接影響了光刻出來的硅片的質(zhì)量. 這也奠定了光刻機超精密工件臺技術(shù)在超精密機械制造與控制領(lǐng)域的最尖端地位,被稱為超精密技術(shù)皇冠上的明珠.
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在 2000 年前,光刻設備只有一個工件臺,晶圓片的對準與蝕刻流程都在上面完成.直到 2001 年,ASML 推出了 Twinscan 雙工件臺系統(tǒng),使得光刻機能在一個工件臺進行曝光晶圓片,同時在另外一個工作臺進行預對準工作,并在第一時間得到結(jié)果反饋,生產(chǎn)效率提高大約 35%,精度提高 10% 以上.